Dimansyon aplikasyon
◇ Plant endistriyèl san chaj lou, tankou elektwonik, aparèy elektrik, machin, endistri chimik, medikaman, twal, rad, tabak ak lòt endistri yo.
◇ Planche siman oswa terrazzo nan depo, makèt, pakin machin ak lòt kote espesyal.
◇ Kouch nan mi ak plafon san pousyè ak kondisyon pou pirifye.
Karakteristik pèfòmans
◇ Aparans plat ak klere, divès koulè.
◇ Fasil pou netwaye epi kenbe.
◇ Adhesion fò, bon fleksibilite ak rezistans enpak.
◇ Bonjan rezistans abrasion.
◇ Konstriksyon rapid ak pri ekonomik.
Karakteristik sistèm
◇ Solvant ki baze sou, koulè solid, briyan oswa mat.
◇ Epesè 0.5-0.8mm.
◇ Jeneral lavi sèvis se 3-5 ane.
Pwosesis konstriksyon
Plain tretman tè: sable pwòp, sifas baz la mande pou sèk, plat, pa gen tanbou kre, pa gen okenn sable grav;
Jadendanfan: doub-eleman, brase byen selon kantite a espesifye (2-3 minit nan wotasyon elektrik), woule oswa grate konstriksyon an;
Nan penti abazde a: doub-eleman dapre kantite lajan an espesifye nan brase pwopòsyon (wotasyon elektrik pou 2-3 minit), ak konstriksyon grate;
Fini penti abazde: brase ajan an koloran ak ajan geri dapre kantite pwopòsyon espesifye (wotasyon elektrik pou 2-3 minit), ak kouch roulo oswa konstriksyon flite.
Endèks teknik
| Atik tès la | Endikatè | |
| Tan siye， H | Sifas Sifas (H) | ≤4 |
| Seche solid (H) | ≤24 | |
| Adhesion, klas | ≤1 | |
| Kreyon dite | ≥2H | |
| Rezistans enpak，Kg·cm | 50 jiska | |
| Fleksibilite | 1mm pase | |
| Rezistans abrasion (750g/500r, pèdi pwa, g) | ≤0.04 | |
| Rezistans dlo | 48h san chanjman | |
| Rezistan a 10% asid silfirik | 56 jou san chanjman | |
| Rezistan a 10% idroksid sodyòm | 56 jou san chanjman | |
| Rezistan a petwòl, 120# | 56 jou san chanjman | |
| Rezistan nan lwil lubrifyan | 56 jou san chanjman | |
Pwofil konstriksyon
